美國國會提出「MATCH Act」新法案，擴大對中國半導體設備的出口管制，特別將艾司摩爾（ASML）的浸潤式DUV曝光機納入限制範圍，旨在阻斷中國取得關鍵晶片技術並維護美國AI領先地位。
美國國會已提出一項名為「MATCH Act」的出口管制新法案，旨在大幅收緊對中國晶片製造商的半導體設備銷售、維護與技術支援。此法案的核心目標，是限制中國取得其無法自主生產的關鍵設備，以維護美國在人工智慧（AI）領域的領先優勢。這項立法由眾議員 Michael Baumgartner 和眾議院中國問題特別委員會主席約翰·穆勒納爾（John Moolenaar）共同發起，與白宮主導的現行對中限制有所不同，此次由國會帶頭推動。
根據報導，該法案特別鎖定全球半導體設備龍頭艾司摩爾（ASML）的浸潤式深紫外光（DUV）曝光機。目前美國已禁止ASML向中國出口最先進的極紫外光（EUV）設備，而這項新法案則將限制範圍擴大至較舊型的DUV設備及其維護服務。受管制的中國企業包含中芯國際（SMIC）、華虹半導體、華為、長鑫存儲（CXMT）及長江存儲（YMTC）等主要晶片公司，未來若法案通過，這些企業將面臨類似於被列入美國實體清單的出口、服務與技術支援限制。
「MATCH Act」法案不僅針對中國，也要求美國盟友實施同等程度的管制措施。若盟國未能在法案生效後的150天內展現更嚴格的法規，美國商務部將可能採取限制性措施。此外，此立法亦擴大了美國對於含有美國軟體、技術或零件的外國製造產品的管制權限。
過去一年，中國一直是ASML的最大市場。2025年，中國市場貢獻了ASML總營收的33%，但預計今年這項比例將降至約20%。對於這項立法提案，荷蘭外交部發言人表示：「評論其他國家的立法草案並非我們的職責。」另一方面，為應對美國潛在的晶片設備限制，近期有中國代表團訪問研究機構與製造商，強調在稀土開採、生產及商業應用方面的合作，暗示中國可能考慮以稀土作為反制措施。